高濃度臭氧清洗設備

High Conc. DIO3 Cleaning Equipment Introduction

使用有機溶劑或酸鹼類液體清洗之缺點:

1.成本高,屬於固定耗材. (每月高達百萬以上的花費)

2.有汙染,須要回收處理,回收成本高.(耗材已外的花費)

3.觸摸或吸入對人體均有害.(操作人員風險)

4.破壞地球生態.(環境汙染)

設備優點:

1.無高成本之化學耗材,只需水.電.氣體即可達到清潔效果

2.無汙染.無產生任何廢料.(不須回收成本)

3.無毒性.無氣味.常溫操作.安全無慮

4.環保意識概念為出發點

購買設備只有一次 , 但是以後完全不需要再購買溶劑耗材 , 好處多多 ....

水電氣基本需求

水源 :

  • 需要加壓超純水(18MΩ)作為水源 , 壓力需大於2.8bar , 水流量0~10L/min
  • 溫度15~25 (偏低最好)
  • 需要加壓RO水作為冷卻水源 , 水流量2~3L/min ,溫度17~23
  • 需要一般超純水或是RO水作為QDR清洗用

電力 :

  • AC電源 , 220V , 50/60Hz

氣體 :

  • O2氧氣 , 壓力4.5~7.6bar , ≥ Grade 4 (99.99%) , flow rate =2.5slm
  • CO2二氧化碳 , 壓力5~7.6bar , ≥ Grade 4.5 (99.99%) , flow rate =0.1slm
  • CDA : 無油氣於particles , 壓力5.3~8.3bar
  • 抽氣 : flow rate 167Nm^3/h (98.3cfm) @STP